磁控溅射靶源
磁控溅射靶源对于镀膜设备而言好像画龙点睛。好的靶源应该具有膜厚均匀性好，沉积速率快，靶材利用率高的特点。同时靶源结构可靠，其材料应与洁净真空环境相容。上海纳微真空技术公司生产的圆柱和平面靶源只采用304不锈钢与无氧铜做结构材料，O-型密封圈数量少于其它靶源而减少了橡胶放气引起的真空污染。由于采用了有限元设计磁场，所镀薄膜均匀，沉积速率高，靶材得到最大程度利用。靶源可与直流，射频，中频，脉冲电源相配，分平衡和非平衡两种式，可镀金属，磁性材料，合金，陶瓷，玻璃，有机材料基片，是广大半导体膜，光学元器件膜，传感器膜，玻璃陶瓷膜，耐磨耐蚀膜，装饰膜，科研镀膜用户的最佳选择。除单个靶源外，我们还可提供多靶建设平台。并能为用户精修，改装各种进口镀膜机的圆柱与平面靶源。
离子源 
离子源直接源于星球大战技术，是镀类金刚石膜，多晶金刚石膜，无序和多晶硅膜，氧化硅，氮化硅，和氧氮化硅膜，及各种高精薄膜的有力工具，并可用于物理和化学蚀刻，磁控和电子束辅助镀膜，以及离子清洗。我们销售的大口径离子源可用于达1平方米的基片，对氧气和氮气的离子化率达80%以上。由于采用了最先进的WRAP技术，我们的离子源无损耗件，与其他著名离子源如
Mark II离子源，连续工作寿命长数十倍。我们可以协助用户将离子源集成到大型镀膜系统如莱宝镀膜系统中。
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