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324
镀膜机
SC
324是新一代蒸发镀膜机。采用了目前最好的真空元器件。
系统主要配置：
- 离子辅助溅射沉积
- 离子源预清洗
- 电子束沉积
- 热丝沉积。
- RF蚀刻和沉积。
- RF和DC磁控溅射沉积
子系统：
- PC/PLC系统控制
- 800mm
X 800mm真空室
- TELEMARK
4 室电子束蒸发源
- 10千瓦电源
- TELEMARK
可编程扫描控制
- INFICON IC-5 沉积速率控制
- 快速更换不均匀性或举升工具包
- CTI-400 400 深冷泵
- VAT 16英寸不锈钢高真空隔绝阀
- 快周期水泵
- GRANDVILLE PHILLIPS
规表控制
- 残量气体分析仪
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603
翻新镀膜机
本机是在美国MRC镀膜机基础上全面翻新。所有机架重新喷涂，真空室电化学抛光。配置全新不锈钢真空元件，真空阀门和管道。由于采用了全新PC/PLC控制和电控硬件，客户可通过内置Ethernet网络接口遥控操作。所有文件，操作手册，和材料清单存在系统中并有CD盘back-up.
也可配置LAN接口以联入客户公司网络。有多重口令保护系统软件。全封闭控制柜可避免漏水造成的事故。本镀膜机符合CSE和CE标准。
系统主要配置：
- 三套DC或RF（自选）磁控溅射靶源
- RF溅射蚀刻
- 红外加热
- 闭环工艺气体控制
- 触摸屏显示器，PC/PLC控制软件包
子系统：
- GP307
-Granville Phillips
离子规管
- CTI
®-8 深冷泵
- Austin
Scientific温度显示器
- MeiVac
控制阀
- MKS
651 流量控制
- 9600压缩机
- AE的MDX-10
直流电源
- AE的RF电源和耦合系统
- MKS651压力控制
- MKS246反应气体控制
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1500
在线镀膜机
1500在线镀膜机为模块化结构。可按客户需求定制。1500在线溅射镀膜机将模块化真空室和PC/PLC控制软件包结合起来。不同工艺室可很容易地重新配置。系统不用昂贵工装夹具便可在100mm~300mm直径基片上镀膜。所镀大多数金属膜不均匀性在1~5%之内。
主要参数：
主要配置：
- RF和DC磁控溅射沉积
- 电子束沉积
- 离子书沉积
- 离子束预清洗
- RF蚀刻
- 水平或垂直工艺流向
- 单层或双层边
子系统：
- AE
MDX 电源
- CTI8500深冷泵
- MKS工艺气体控制
- Varian
干式涡旋泵
- GP307
离子管规
- Austin
Scientific
温度显示器
- MKS残量器体分析仪
- MKS
651
压力控制
- 真空抽速控制
- 配方控制
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1800
镀膜机
1800镀膜机是新一代蒸发式镀膜机。采用了目前最好的真空元器件。该镀膜机采用了适合快速装卸的褡裢结构设计。真空室采用铰链支承和平横重以方便操作。真空室备有2英寸透明视窗。并有可置于顶部或底部的旋转耦合其转动基片支承架，以及多个膜厚在线测量点。
系统主要配置：
- 450mm直径不锈钢蒸发镀膜真空室
- 480mm直径蒸发源库底盘，并有多个一英寸直径真空接口
- 500mm直径
X 230mm高真空镀膜室
- 可互换顶升和均匀性工装夹具
- 控制选项1：PLC触摸屏控制可全面集成沉积速率监测器，离子管规，电机和电源。低成本“单按钮”5
X 6英寸显示屏可显示各真空系统元件状态和运行情况
- 控制选项2：PC/PLC触摸屏控制能最大程度地提供全面工艺过程控制。基于VB的图像界面显示了真空室流程图以利客户简便，动态控制工艺。流程图所有元件功能输入输出信息由可编程逻辑控制器（PLC）控制并连接微机，与视窗2000操作系统和配方库一起构成了公用强大的控制软件系统
子系统：
- CTI
9600 压缩机
- Austin
Scientific 温度显示器
- 真空抽气显示（选项）
- 配方调制（选项）
- 配方显示（选项）
- 选项清单：Veeco
Mark II 离子源；CTI 水泵。Leybold 分子泵。TELEMARK
6P/15cc
电子束蒸发源；Temescal® 1P/40cc 电子束蒸发源；MKS 残量气体分析系统；MKS 气体控制系统
- 离子辅助溅射沉积
- 离子源预清洗
- 电子束沉积
- 热丝沉积
- RF蚀刻和沉积
- RF和直流磁控溅射沉积
-
基片红外加热
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3000
镀膜机
广受欢迎的3000有不同尺寸真空室和选项可供客户挑选。客户可根据自己项目需要确定真空室尺寸和真空抽气系统位置。工装夹具可灵活配置以适应客户产能和不同工艺要求。特别适合于高精妒光学元器件和传感器镀膜。客户可选项有:
- 离子辅助磁控溅射镀膜
- 离子源预清洗
- 电子束蒸发镀膜
- 热丝蒸发镀膜
- 射频蚀刻和沉积
- 射频和直流磁控溅射镀膜
- 被镀基片红外加热
- Veeco Mark II 离子源
- CTI水泵
- Leybold分子泵
- Telmark 6P/15cc电子枪
- Temescal 1P/40cc电子枪
- MKS气体残量分析仪
- MKS气体控制系统
主要配置：
- 685 X 915蒸发源室
- 蒸发源阵配有多组1英寸真空接口
- 真空室配有多组2 ¾英寸CF超高真空法兰接口
- 可互换举升和膜厚均匀性工装夹具
- 可适合蒸发和磁控溅射镀膜
- 300顶部法兰可适用于安装任何工装夹具
控制方案
1
–
PLC触摸屏控制：
PLC触摸屏用经济的“单按钮”可全面控制膜厚控制仪，离子真空规，马达，以及功率大小等。5
X 6英寸屏幕可显示真空子系统，状况和运行情况。
控制方案
2 – PC/PLC触摸屏控制
本镀膜机配有先进的PC/PLC控制系统以最大程度灵活控制客户工艺过程。基于VB的人机界面显示了全面的真空动态状况但又易于操作。工艺的设计和控制由流程图似程序语言输入输出，从而驱动控制所有元件功能反馈的PLC模块将信息连入计算机。高端控制由视窗2000和Excel工艺配方菜单组成。
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IVC
400 溅射镀膜机
IVC 400 镀膜机是多功能在线镀膜机，特别适用于高等级多层光学膜系镀膜。其最大特点是可连续在面板正反两面镀膜而不影响真空室真空度。该镀膜机包括PID控制的可调温面板安装台，石英膜厚控制和光学膜厚控制。是经济有效地大批量镀复杂多层膜系的最佳镀膜机。
主要应用
- 平面显示器科研和中试镀膜
- 光学滤波器和反射镜
- 激光元器件膜
主要参数：
- 最大镀膜面积500mm X 500mm
- 膜厚不均匀性小于2%
- 被镀工件可加热到摄氏400度
- 双面镀膜
- 膜层特性好
- 工艺重合性好
- 产量高
- 结构紧凑，全自动化
- 价格优惠
适用膜系置：
- ITO, SiOx, Cr, Al, Al2O3, Al2O3, Nd2O5, Ta2O5, TiO2, CuO2, MgO, SixNy, Ag 等等
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IZOMOD
500 在线镀膜机
IZOMOD
500 经济型在线磁控溅射镀膜机可在塑料，玻璃，和金属等面板上镀金属膜。在线结构可在厚到25mm的各种面板上镀出均匀的装饰膜和功能膜。
主要应用
- 在塑料，玻璃，和金属等面板上镀各种装饰膜和功能膜。
主要参数：
- 最大镀膜面积500mm X 500mm
- 高效等离子清洗
- 所镀膜色彩亮丽,与面板结合力好，抗擦伤
- 易于配置成顺序镀多层膜系
- 产量高
- 结构紧凑,全自动控制
适用膜系置：
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IZOMOD
545 批量磁控溅射镀膜机
IZOMOD
545 |
